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平板型氧化铝研磨微粉的成分用途

日期:2019-07-21 08:18
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摘要: 平板型氧化铝研磨微粉 产品介绍:该研磨抛光微粉是以徳国进口工业氧化铝粉为主要原料,采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小,经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石,是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。 1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能: 平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量和日本FUJIMI公司相当。 2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点: 1...
      平板型氧化铝研磨微粉

     产品介绍:该研磨抛光微粉是以徳国进口工业氧化铝粉为主要原料,采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小,经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石,是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。

1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能:

平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量和日本FUJIMI公司相当。

2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点:

1)平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的*大区别是:片状,硬度高,粒度均匀。

2)特点为:  

A、形状为平板状,即片状,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间,如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍; 

   B、由于形状为平板状,故对于被磨对象(如半导体硅片等)来说不易划伤,合格品率可提高10%15%,如半导体硅片,其合格品率一般能达到99%以上; 

   C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%50%; 

   D、与国外同类产品相比,质量达到或超过国外同类产品,品质已达到国际标准,但产品价格只有国外同类产品的50%

    E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能,故加工的产品合格品率高,质量稳定,生产成本只有原来的50%-60%。(具体数据可见用户报告)

平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:

1)电子行业 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。2)玻璃行业 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。3)涂附行业 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。4)金属和陶瓷加工业。

平板状(片状)氧化铝研磨微粉(AL2O3)性能指标:

化学成份:AL2O3:99.6         SiNa2O2:0.027   

             Na2O:0.03       Fe2O3 0.03

  粒度分布:

        粒度分布 微米(µm

产品 平均粒度(D50值)(由Coulter Counter测试)

WTA3                                                          3.1

WTA5                                                          4.8

WTA9                                                          6.5

WTA12                                                        8.0

WTA15                                                        10.5

WTA20                                                        14.5

WTA25                                                        17.5

WTA30                                                        20.5

WTA35                                                        24.5

WTA40                                                        30.5

WTA50                                                        38.0