平板型氧化铝研磨微粉的成分用途

     产品介绍：该研磨抛光微粉是以徳国进口工业氧化铝粉为主要原料,采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小,经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石,是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。

1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能:

平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量和日本FUJIMI公司相当。

2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点:

1）平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的*大区别是：片状，硬度高，粒度均匀。

2）特点为：  

A、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍； 

   B、由于形状为平板状，故对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提高10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99%以上； 

   C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%； 

   D、与国外同类产品相比，质量达到或超过国外同类产品，品质已达到国际标准，但产品价格只有国外同类产品的50%；

    E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，质量稳定，生产成本只有原来的50%-60%。（具体数据可见用户报告）

平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途:

1）电子行业 : 单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛。2）玻璃行业 : 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。3）涂附行业 : 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。4）金属和陶瓷加工业。

三, 平板状(片状)氧化铝研磨微粉(AL2O3)性能指标：

化学成份:AL2O3:99.6         SiNa2O2:0.027   

             Na2O:0.03       Fe2O3 0.03

  粒度分布:

        粒度分布 微米（µm）

产品 平均粒度（D50值）（由Coulter Counter测试）

WTA3                                                          3.1

WTA5                                                          4.8

WTA9                                                          6.5

WTA12                                                        8.0

WTA15                                                        10.5

WTA20                                                        14.5

WTA25                                                        17.5

WTA30                                                        20.5

WTA35                                                        24.5

WTA40                                                        30.5

WTA50                                                        38.0